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Plasma Etching: Fundamentals and Applications - Couverture rigide

 
9780198562870: Plasma Etching: Fundamentals and Applications

Synopsis

Book by Sugawara M

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Présentation de l'éditeur

The focus of this book is the remarkable advances in understanding of low pressure RF (radio frequency) glow discharges. A basic analytical theory and plasma physics are explained. Plasma diagnostics are also covered before the practicalities of etcher use are explored.

Biographie de l'auteur

Professor Minoru Sugawara, Hachinohe Institute of Technology, Hachinohe-city, Aomori 031, Japan. Fax: (0) 178 25 1430

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  • ÉditeurOxford University Press
  • Date d'édition1998
  • ISBN 10 019856287X
  • ISBN 13 9780198562870
  • ReliureRelié
  • Langueanglais
  • Nombre de pages356

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Sugawara, M.
Edité par Oxford University Press, 1998
ISBN 10 : 019856287X ISBN 13 : 9780198562870
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