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Synopsis
The focus of this book is the remarkable advances in understanding of low pressure RF (radio frequency) glow discharges. A basic analytical theory and plasma physics are explained. Plasma diagnostics are also covered before the practicalities of etcher use are explored.
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Professor Minoru Sugawara, Hachinohe Institute of Technology, Hachinohe-city, Aomori 031, Japan. Fax: (0) 178 25 1430
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Plasma Etching (Hardcover)
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Oxford University Press, Oxford, 1998
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ISBN 13 : 9780198562870
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Plasma Etching: Fundamentals and Applications (eng)
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Oxford University Press, 1998
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Plasma Etching: Fundamentals and Applications (Series on Semiconductor Science and Technology)
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