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Plasma Etching: Fundamentals and Applications - Couverture rigide

 
9780198562870: Plasma Etching: Fundamentals and Applications

Synopsis

The focus of this book is the remarkable advances in understanding of low pressure RF (radio frequency) glow discharges. A basic analytical theory and plasma physics are explained. Plasma diagnostics are also covered before the practicalities of etcher use are explored.

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Professor Minoru Sugawara, Hachinohe Institute of Technology, Hachinohe-city, Aomori 031, Japan. Fax: (0) 178 25 1430

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Sugawara, M.
Edité par Oxford University Press, 1998
ISBN 10 : 019856287X ISBN 13 : 9780198562870
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M. Sugawara
Edité par Oxford University Press, USA, 1998
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Sugawara, M.; Stansfield, Barry L.; Fujita, Hiroharu
Edité par Oxford University Press, 1998
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