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Synopsis
This book provides insight into the use of CAD for layout analysis and optimization of interconnect in high speed, high complexity integrated circuits, which have become the dominating factor in determining system performance in nanometer technologies. The text investigates the effects on system performance and reliability of wire size, spacing, wire length, coupling length, load capacitance, rise time of the inputs, place of overlap, frequency, shields, signal direction and wire width for both the aggressors and the victim wires. The authors present a range of CAD algorithms and techniques for synthesizing and optimizing interconnect.
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Presents a range of CAD algorithms and techniques for synthesizing and optimizing interconnect Provides insight & intuition into layout analysis and optimization for interconnect in high speed, high complexity integrated circuits
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Interconnect Noise Optimization In Nanometer Technologies (Hb)
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INTERCONNECT NOISE OPTIMIZATION IN NANOMETER TECHNOLOGIES
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Interconnect Noise Optimization in Nanometer Technologies
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Springer US Nov 2005, 2005
ISBN 10 : 0387258701
ISBN 13 : 9780387258706
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Buch. Etat : Neu. This item is printed on demand - it takes 3-4 days longer - Neuware -Presents a range of CAD algorithms and techniques for synthesizing and optimizing interconnectProvides insight & intuition into layout analysis and optimization for interconnect in high speed, high complexity integrated circuits 160 pp. Englisch. N° de réf. du vendeur 9780387258706
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Interconnect Noise Optimization in Nanometer Technologies
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