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Synopsis
This book presents state-of-the-art research in microelectronic processing for very large scale integration. Emphasizing applications and techniques, the book provides considerable insight into Japan's technological effort in this important area of science. Focused on research involving plasma deposition and dry etching, considerable attention is devoted to MOS gate fabrication, the studies of the influence of process parameters on electrical properties, dry processing technologies, and the theory of plasma chemical reactions.
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Applications of Plasma Processes to VLSI Technology
Edité par
Wiley-Interscience, 1985
ISBN 10 : 0471869600
ISBN 13 : 9780471869603
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Applications of Plasma Processes to Vlsi Technology
Edité par
John Wiley & Sons, 1985
ISBN 10 : 0471869600
ISBN 13 : 9780471869603
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Applications of Plasma Processes to VLSI Technology
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Wiley-Interscience, 1985
ISBN 10 : 0471869600
ISBN 13 : 9780471869603
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Applications of Plasma Processes to VLSI Technology
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Wiley-Interscience, 1985
ISBN 10 : 0471869600
ISBN 13 : 9780471869603
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Applications of Plasma Processes to VLSI Technology
Edité par
John Wiley & Sons, New York, 1985
ISBN 10 : 0471869600
ISBN 13 : 9780471869603
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Hard Cover. First English Language Edition. Hard blue covers, content is as new, ex library copy with usual stamps and labels, no pocket and no external markings, otherwise a fine copy, pp xiv,394. Text figures and diagrams throughout. Size: 16x24cm. N° de réf. du vendeur 005143
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