Articles liés à Atomic Layer Deposition (ALD): Fundamentals, Characteristics...

Atomic Layer Deposition (ALD): Fundamentals, Characteristics and Industrial Applications - Couverture rigide

 
9781634838696: Atomic Layer Deposition (ALD): Fundamentals, Characteristics and Industrial Applications
Couverture rigide
ISBN 10 : 1634838696 ISBN 13 : 9781634838696
Editeur : Nova Science Publishers Inc, 2015

Synopsis

Atomic layer deposition (ALD) is a thin film deposition technique used in the mass production of microelectronics. In this book, novel nonvolatile memory devices are discussed. The chapters examine the low-temperature fabrication process of single-crystal platinum non-thin films using plasma-enhanced atomic layer deposition (PEALD). A comprehensive review of ALD surface coatings for battery systems is provided, as well as a theoretical calculation on the mechanism of thermal and plasma-enhanced atomic layer deposition of SiO2; and fluorine doping behavior in Zn-based conducting oxide film grown by ALD.

Les informations fournies dans la section « Synopsis » peuvent faire référence à une autre édition de ce titre.

Éditeur
Nova Science Publishers Inc
Date d'édition
2015
Langue
anglais
ISBN 10 
1634838696
ISBN 13 
9781634838696
Reliure
Relié
Nombre de pages
172
Éditeur
Valdez Jeannie
Coordonnées du fabricant
non disponible
Personne responsable
non disponible