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PLASMA-SURFACE INTERACTIONS OF ADVANCED PHOTORESIST SYSTEMS
Edité par
VDM Verlag Dr. Müller, 2009
ISBN 10 : 3639178246
ISBN 13 : 9783639178241
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Kartoniert / Broschiert. Etat : New. Dieser Artikel ist ein Print on Demand Artikel und wird nach Ihrer Bestellung fuer Sie gedruckt. Autor/Autorin: Engelmann SebastianSebastian Engelmann earned his Vordiplom at the University of Wuerzburg, Germany. He then earned his Ph.D. from the University of Maryland, College Park, in 2008 under the direction of Prof. Gottlieb Oehrlein. He is. N° de réf. du vendeur 4964504
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PLASMA-SURFACE INTERACTIONS OF ADVANCED PHOTORESIST SYSTEMS | PLASMA-SURFACE INTERACTIONS OF MODEL POLYMERS FOR ADVANCED PHOTORESIST SYSTEMS
Vendeur : preigu, Osnabrück, Allemagne
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Taschenbuch. Etat : Neu. PLASMA-SURFACE INTERACTIONS OF ADVANCED PHOTORESIST SYSTEMS | PLASMA-SURFACE INTERACTIONS OF MODEL POLYMERS FOR ADVANCED PHOTORESIST SYSTEMS | Sebastian Engelmann | Taschenbuch | Englisch | VDM Verlag Dr. Müller | EAN 9783639178241 | Verantwortliche Person für die EU: preigu GmbH & Co. KG, Lengericher Landstr. 19, 49078 Osnabrück, mail[at]preigu[dot]de | Anbieter: preigu. N° de réf. du vendeur 101488377
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PLASMA-SURFACE INTERACTIONS OF ADVANCED PHOTORESIST SYSTEMS : PLASMA-SURFACE INTERACTIONS OF MODEL POLYMERS FOR ADVANCED PHOTORESIST SYSTEMS
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Taschenbuch. Etat : Neu. nach der Bestellung gedruckt Neuware - Printed after ordering - Plasma based transfer of photoresist (PR) patterns using 193nm PR films usually suffer from high removal rates and excessive surface and line edge roughness. The effects of process time, PR material, bias and source power, pressure and gas chemistry were studied. Polymer destruction in the top surface, oxygen and hydrogen loss along with fluorination were observed for all materials initially, which was followed by steady state etch conditions. A strong dependence of plasma-induced surface chemical and morphological changes on polymer structure was observed. In particular, the adamantane group of 193 nm PR showed poor stability. Two linked mechanisms for the roughening behavior of the films during processing were identified: A physical pattern transfer mechanism enhances initial roughness by nonuniform removal. Additional to that, roughness formation occurred linear to the energy density deposited during processing.Even for various feedgas chemistries adamantyl containing polymers show enhanced roughening rates, suggesting that the instability of the adamantyl structure used in 193nm PR polymers is the performance limiting factor for processing PR materials. N° de réf. du vendeur 9783639178241
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PLASMA-SURFACE INTERACTIONS OF ADVANCED PHOTORESIST SYSTEMS
Edité par
VDM Verlag, 2009
ISBN 10 : 3639178246
ISBN 13 : 9783639178241
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Vendeur : Mispah books, Redhill, SURRE, Royaume-Uni
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