Strain is used to boost performance of MOSFETs. Modeling of strain effects on transport is an important task of modern simulation tools required for device design. The book covers all relevant modeling approaches used to describe strain in silicon. The subband structure in stressed semiconductor films is investigated in devices using analytical k.p and numerical pseudopotential methods. A rigorous overview of transport modeling in strained devices is given.
Les informations fournies dans la section « Synopsis » peuvent faire référence à une autre édition de ce titre.
This book covers modeling approaches used to describe strain in silicon. The subband structure in stressed semiconductor films is explored in devices using analytical k.p and numerical pseudopotential methods. Includes a rigorous overview of transport modeling.
Les informations fournies dans la section « A propos du livre » peuvent faire référence à une autre édition de ce titre.
Vendeur : Brook Bookstore On Demand, Napoli, NA, Italie
Etat : new. Questo è un articolo print on demand. N° de réf. du vendeur 3d2b47a6e96d9a128215ed691bac71b9
Quantité disponible : Plus de 20 disponibles
Vendeur : Ria Christie Collections, Uxbridge, Royaume-Uni
Etat : New. In. N° de réf. du vendeur ria9783709119334_new
Quantité disponible : Plus de 20 disponibles
Vendeur : BuchWeltWeit Ludwig Meier e.K., Bergisch Gladbach, Allemagne
Taschenbuch. Etat : Neu. This item is printed on demand - it takes 3-4 days longer - Neuware -Strain is used to boost performance of MOSFETs. Modeling of strain effects on transport is an important task of modern simulation tools required for device design. The book covers all relevant modeling approaches used to describe strain in silicon. The subband structure in stressed semiconductor films is investigated in devices using analytical k.p and numerical pseudopotential methods. A rigorous overview of transport modeling in strained devices is given. 268 pp. Englisch. N° de réf. du vendeur 9783709119334
Quantité disponible : 2 disponible(s)
Vendeur : moluna, Greven, Allemagne
Etat : New. N° de réf. du vendeur 385772513
Quantité disponible : Plus de 20 disponibles
Vendeur : Books Puddle, New York, NY, Etats-Unis
Etat : New. pp. 266. N° de réf. du vendeur 26379798351
Quantité disponible : 4 disponible(s)
Vendeur : Majestic Books, Hounslow, Royaume-Uni
Etat : New. Print on Demand pp. 266. N° de réf. du vendeur 383057040
Quantité disponible : 4 disponible(s)
Vendeur : preigu, Osnabrück, Allemagne
Taschenbuch. Etat : Neu. Strain-Induced Effects in Advanced MOSFETs | Viktor Sverdlov | Taschenbuch | Computational Microelectronics | xiv | Englisch | 2016 | Springer | EAN 9783709119334 | Verantwortliche Person für die EU: Springer Verlag GmbH, Tiergartenstr. 17, 69121 Heidelberg, juergen[dot]hartmann[at]springer[dot]com | Anbieter: preigu. N° de réf. du vendeur 109582438
Quantité disponible : 5 disponible(s)
Vendeur : Biblios, Frankfurt am main, HESSE, Allemagne
Etat : New. PRINT ON DEMAND pp. 266. N° de réf. du vendeur 18379798341
Quantité disponible : 4 disponible(s)
Vendeur : buchversandmimpf2000, Emtmannsberg, BAYE, Allemagne
Taschenbuch. Etat : Neu. This item is printed on demand - Print on Demand Titel. Neuware -Strain is used to boost performance of MOSFETs. Modeling of strain effects on transport is an important task of modern simulation tools required for device design. The book covers all relevant modeling approaches used to describe strain in silicon. The subband structure in stressed semiconductor films is investigated in devices using analytical k.p and numerical pseudopotential methods. A rigorous overview of transport modeling in strained devices is given.Springer-Verlag KG, Sachsenplatz 4-6, 1201 Wien 268 pp. Englisch. N° de réf. du vendeur 9783709119334
Quantité disponible : 1 disponible(s)
Vendeur : AHA-BUCH GmbH, Einbeck, Allemagne
Taschenbuch. Etat : Neu. Druck auf Anfrage Neuware - Printed after ordering - Strain is used to boost performance of MOSFETs. Modeling of strain effects on transport is an important task of modern simulation tools required for device design. The book covers all relevant modeling approaches used to describe strain in silicon. The subband structure in stressed semiconductor films is investigated in devices using analytical k.p and numerical pseudopotential methods. A rigorous overview of transport modeling in strained devices is given. N° de réf. du vendeur 9783709119334
Quantité disponible : 1 disponible(s)