Patterns: Muster in Design, Kunst und Architektur - Couverture souple

 
9783764377496: Patterns: Muster in Design, Kunst und Architektur

Synopsis

Von wegen, weniger ist mehr. Endlich haben Designer, Künstler und Architekten die suggestive Wirkung von Mustern wiederentdeckt. Sie huldigen nun dem einst zum Überflüssigen degradierten Dekor, indem sie Lampen, Stühle oder ganze Räume mit Streifen, Punkten oder Tarnmustern überziehen. Viele interpretieren, wie die in Rotterdam ansässigen Gestalter Jurgen Bey und Hella Jongerius, traditionsreiche Motive neu. Das Buch stellt gattungsübergreifend verschiedene Zugriffe auf Muster vor und zeigt, welche Funktionen Dekore übernehmen können. Anhand von aktuellen Beispielen werden die vielfältigen Farben, Formen und Anwendungen vor den Augen der Leser ausgebreitet. Dabei wird sichtbar, dass das Muster den gegenwärtigen technischen Möglichkeiten entspricht und den heutigen Wahrnehmungsbedingungen entgegenkommt. Die Arbeiten von international renommierten Gestaltern wie Tord Boontje, Michael Lin, Olaf Nicolai und Sauerbruch & Hutton werden in alphabethischer Reihenfolge vorgestellt.

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Présentation de l'éditeur

Von wegen, weniger ist mehr. Endlich haben Designer, Künstler und Architekten die suggestive Wirkung von Mustern wiederentdeckt. Sie huldigen nun dem einst zum Überflüssigen degradierten Dekor, indem sie Lampen, Stühle oder ganze Räume mit Streifen, Punkten oder Tarnmustern überziehen. Viele interpretieren, wie die in Rotterdam ansässigen Gestalter Jurgen Bey und Hella Jongerius, traditionsreiche Motive neu. Das Buch stellt gattungsübergreifend verschiedene Zugriffe auf Muster vor und zeigt, welche Funktionen Dekore übernehmen können. Anhand von aktuellen Beispielen werden die vielfältigen Farben, Formen und Anwendungen vor den Augen der Leser ausgebreitet. Dabei wird sichtbar, dass das Muster den gegenwärtigen technischen Möglichkeiten entspricht und den heutigen Wahrnehmungsbedingungen entgegenkommt. Die Arbeiten von international renommierten Gestaltern wie Tord Boontje, Michael Lin, Olaf Nicolai und Sauerbruch & Hutton werden in alphabethischer Reihenfolge vorgestellt.

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9783764371852: Patterns: Muster in Design, Kunst Und Architektur

Edition présentée

ISBN 10 :  3764371854 ISBN 13 :  9783764371852
Editeur : Birkhauser Verlag AG, 2005
Couverture rigide