High-k materials in Dynamic Random Access Memories (DRAM): Atomic scale engineering of HfO2-based dielectrics for future DRAM applications - Couverture souple

Dudek, Piotr

 
9783838130187: High-k materials in Dynamic Random Access Memories (DRAM): Atomic scale engineering of HfO2-based dielectrics for future DRAM applications
Couverture souple
ISBN 10 : 3838130189 ISBN 13 : 9783838130187
Editeur : Sudwestdeutscher Verlag Fur Hochschulschriften AG, 2011

Synopsis

I would like to give you an outstanding opportunity to experience more about modern materials for Dynamic Random Access Memories. Therefore I give this book into your hands. You will find here a theory chapter focusing on DRAM physics as well as a deep description of deposition and characterization methods used in this work. Finally, you will discover how to engineer materials on an atomic scale and how to investigate those thin films.

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À propos de l?auteur

Born 1983 in Bogatynia,Poland.1992-1999 primary school in Bogatynia,1999-2002 secondary school in Bogatynia,2002-2007 Faculty of Microsystems, Electronics, Photonics, Wroclaw University of Technology,2004-2009 Faculty of Foreign Languages, Wroclaw University,2007-2011 BTU Cottbus Germany, PhD in experimental Physics

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Éditeur
Sudwestdeutscher Verlag Fur Hochschulschriften AG
Date d'édition
2011
Langue
anglais
ISBN 10 
3838130189
ISBN 13 
9783838130187
Reliure
Broché
Nombre de pages
112
Coordonnées du fabricant
non disponible
Personne responsable
non disponible