Design for Manufacturability and Yield for Nano-Scale CMOS - Couverture souple
Livre 5 sur 34: Integrated Circuits and Systems
Synopsis
Manufacturability and yield are no longer a fabrication, packaging, and test concerns. They are aspects that have to be designed in, and they are everybody’s responsibility. Design for Manufacturability and Yield for Nano-Scale CMOS walks the reader through all the aspects of manufacturability and yield in a nano-CMOS process and how to address each aspect at the proper design step starting with the layout of standard cells and how to yield-grade libraries for critical area and lithography artifacts through place and route, CMP model based simulation and dummy-fill insertion, and through statistical timing closure of the design. It alerts the designer to the pitfalls to watch for and to the good practices that can enhance a design’s manufacturability and yield. A must read book for the serious designer.
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À propos de l?auteur
Dr. Charles Chiang is R&D Director of the Advanced Technology Group at Synopsys Inc. in Mountain View, CA, USA
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Design for Manufacturability and Yield for Nano-Scale CMOS (Integrated Circuits and Systems)
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Design for Manufacturability and Yield for Nano-Scale CMOS
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Springer Netherlands Nov 2010, 2010
ISBN 10 : 9048173035
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Taschenbuch. Etat : Neu. This item is printed on demand - it takes 3-4 days longer - Neuware -This book walks the reader through all the aspects of manufacturability and yield in a nano-CMOS process. It covers all CAD/CAE aspects of a SOC design flow and addresses a new topic (DFM/DFY) critical at 90 nm and beyond. This book is a must read book the serious practicing IC designer and an excellent primer for any graduate student intent on having a career in IC design or in EDA tool development. 288 pp. Englisch. N° de réf. du vendeur 9789048173037
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Springer Netherlands, 2010
ISBN 10 : 9048173035
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Kartoniert / Broschiert. Etat : New. Dieser Artikel ist ein Print on Demand Artikel und wird nach Ihrer Bestellung fuer Sie gedruckt. Addressing a new topic (DFM/DFY) critical at 90 nm and beyondNo book available today with comprehensive coverage of this topicBook covers all CAD/CAE aspects of a SOC design flowDr. Charles Chiang is R&D Director of the Advanced. N° de réf. du vendeur 5821147
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