Investigation on SiGe Selective Epitaxy for Source and Drain Engineering in 22 nm CMOS Technology Node and Beyond - Couverture souple

Livre 652 sur 797: Springer Theses

Wang, Guilei

 
9789811500473: Investigation on SiGe Selective Epitaxy for Source and Drain Engineering in 22 nm CMOS Technology Node and Beyond
Couverture souple
ISBN 10 : 9811500479 ISBN 13 : 9789811500473
Editeur : Springer, 2019

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Synopsis

Introduction.- Strain technology of Si-based materials.- SiGe Epitaxial Growth and material characterization.- SiGe Source and Drain Integration and transistor performance investigation.- Pattern Dependency behavior of SiGe Selective Epitaxy.- Summary and final words.

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Éditeur
Springer
Date d'édition
2019
Langue
anglais
ISBN 10 
9811500479
ISBN 13 
9789811500473
Reliure
Taschenbuch
Coordonnées du fabricant
non disponible
Personne responsable
CMN Printpool Inh. Mathis Neumann
https://www.also.com/ec/cms5/en_6000/6000/index.jsp

Friedrich-Karl-Str. 9
Hamburg
Allemagne

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