PROJECT ON Elements of Modern Physics
Ion implantation is a common technique used in the semiconductor industry for introducing dopants into a substrate to alter its electrical and physical properties. The success of this technique depends on the accurate modeling of the ion implantation process. SRIM (Stopping and Range of Ions in Matter) is a widely used simulation software for predicting ion implantation behavior in materials. In this project, we will use SRIM to simulate the ion implantation process and analyze its effects on a silicon substrate.IRADINA SOFTWARE also used for Ion implantation.
Les informations fournies dans la section « Synopsis » peuvent faire référence à une autre édition de ce titre.
Vendeur : California Books, Miami, FL, Etats-Unis
Etat : New. Print on Demand. N° de réf. du vendeur I-9798389987968
Quantité disponible : Plus de 20 disponibles
Vendeur : PBShop.store UK, Fairford, GLOS, Royaume-Uni
PAP. Etat : New. New Book. Shipped from UK. Established seller since 2000. N° de réf. du vendeur L2-9798389987968
Quantité disponible : Plus de 20 disponibles
Vendeur : Ria Christie Collections, Uxbridge, Royaume-Uni
Etat : New. In. N° de réf. du vendeur ria9798389987968_new
Quantité disponible : Plus de 20 disponibles