Chemical Solution Deposition of Functional Oxide Thin Films
Langue : anglais
Edité par Springer, 2014
- Livre relié
- Neuf
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Druck auf Anfrage Neuware - Printed after ordering - This is the first text to cover all aspects of solution processed functional oxide thin-films. Chemical Solution Deposition (CSD) comprises all solution based thin- film deposition techniques, which involve chemical reactions of precursors during the formation of the oxide films, i. e. sol-gel type routes, metallo-organic decomposition routes, hybrid routes, etc. While the development of sol-gel type processes for optical coatings on glass by silicon dioxide and titanium dioxide dates from the mid-20th century, the first CSD derived electronic oxide thin films, such as lead zirconate titanate, were prepared in the 1980's. Since then CSD has emerged as a highly flexible and cost-effective technique for the fabrication of a very wide variety of functional oxide thin films. Application areas include, for example, integrated dielectric capacitors, ferroelectric random access memories, pyroelectric infrared detectors, piezoelectric micro-electromechanical systems, antireflective coatings, optical filters, conducting-, transparent conducting-, and superconducting layers, luminescent coatings, gas sensors, thin film solid-oxide fuel cells, and photoelectrocatalytic solar cells. In the appendix detailed 'cooking recipes' for selected material systems are offered.…
N° de réf. du vendeur 9783211993101
- Titre
- Chemical Solution Deposition of Functional Oxide Thin Films
- Auteur
- Rainer Waser
- Éditeur
- Springer
- Année de publication
- 2014
- État de l'article
- Neu
- Reliure
- Buch
- Langue
- anglais
- ISBN à 10 chiffres
- 321199310X
- ISBN à 13 chiffres
- 9783211993101
- Poids de l'article
- 1 373 grammes
- Dimensions
- 241x160x49 mm
This is the first text to cover all aspects of solution processed functional oxide thin-films. Chemical Solution Deposition (CSD) comprises all solution based thin- film deposition techniques, which involve chemical reactions of precursors during the formation of the oxide films, i. e. sol-gel type routes, metallo-organic decomposition routes, hybrid routes, etc. While the development of sol-gel type processes for optical coatings on glass by silicon dioxide and titanium dioxide dates from the mid-20th century, the first CSD derived electronic oxide thin films, such as lead zirconate titanate, were prepared in the 1980's. Since then CSD has emerged as a highly flexible and cost-effective technique for the fabrication of a very wide variety of functional oxide thin films. Application areas include, for example, integrated dielectric capacitors, ferroelectric random access memories, pyroelectric infrared detectors, piezoelectric micro-electromechanical systems, antireflective coatings, optical filters, conducting-, transparent conducting-, and superconducting layers, luminescent coatings, gas sensors, thin film solid-oxide fuel cells, and photoelectrocatalytic solar cells. In the appendix detailed "cooking recipes" for selected material systems are offered.
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