Deep Level Defects in Electron-Irradiated Aluminum Gallium Nitride Grown by Molecular Beam Epitaxy

Langue : anglais

Edité par BIBLIOSCHOLAR, 2012

1286861233 / 9781286861233

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KlappentextrnrnAluminum gallium nitride (AlGaN)-based devices are attractive candidates for integration into future Air Force communication and sensor platforms, including those that must operate in harsh radiation environments. In this study, t.

N° de réf. du vendeur 6548567

Titre
Deep Level Defects in Electron-Irradiated Aluminum Gallium Nitride Grown by Molecular Beam Epitaxy
Auteur
Hogsed, Michael R.
Éditeur
BIBLIOSCHOLAR
Année de publication
2012
État de l'article
New
Reliure
Couverture souple
Langue
anglais
ISBN à 10 chiffres
1286861233
ISBN à 13 chiffres
9781286861233

moluna

Greven, Allemagne

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