Emerging Technologies for In Situ Processing

Langue : anglais

Edité par Springer, Springer Netherlands Sep 2011, 2011

9401071306 / 9789401071307

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This item is printed on demand - it takes 3-4 days longer - Neuware -1. H. Ahmed In-Situ Processing Canbining MBE, Lit:hJgraphy and Ion-Implantation 2. 1. Hayashi M::tivations and Early DenDnstrations for In-Situ Prcx::essings For III -V Semiconductor Devices 13 3. John J. Ritsko Laser Etchi. nJ and Microelectronic Applications 23 4. D. Bauerle, T. Szorenyi, G. Q. Zhang, K. Piglmayer, M. Eyett, R. Kullmer Laser-Induced O1emical Processing of Materials 33 5. E. L. Hu High Technology Manufacturing : Critical Issues for the Future 45 6. J. P. Harbison, P. F. Liao, D. M. Hwang, E. Kapon, M. C. Tamargo, G. E. Derkits Jr. and J. Levkoff U1 tra High Vacuum Processing : MBE 55 7. P. N. Favennec, H. L'Haridon, M. Salvi, L. Henry, A. Le Cerre, D. Lecrosnier, M. A. Di Forte Poisson, J. P. Duchemin Epitaxial Growth of III-V Materials on Implanted III-V Substrates 61 8. R. L. Jackson, T. T. Kodas, G. W. Tyndall, T. H. Baum and P. B. Canita Mechanisms of Laser-Induced Deposition fran the Gas Phase 71 9. D. Braichotte and H. Van Den Bergh Tline Resolved Measurements in the Thennally Assisted Photolytic Laser O1emical Vapor Deposition of Platinum 83 10. M. Rothschild and D. J. Ehrlich Excliner Laser Projection Patterning 93 11. P. H. Key, P. E. Dyer, R. D. GreenJugh Excliner Laser Patterning and Etchi. nJ of Metals 105 12. G. Steng1, H. Loschner, E. Hanme1, E. D. Wolf, J. J. Muray Ion Projection Lit:hJgraphy 113 13. J. E. Bouree and J. 304 pp. Englisch.

N° de réf. du vendeur 9789401071307

Titre
Emerging Technologies for In Situ Processing
Auteur
van Tran Nguyen
Éditeur
Springer, Springer Netherlands Sep 2011
Année de publication
2011
État de l'article
Neu
Reliure
Taschenbuch
Langue
anglais
ISBN à 10 chiffres
9401071306
ISBN à 13 chiffres
9789401071307
Poids de l'article
464 grammes
Dimensions
235x155x17 mm

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