Field-Effect Transistors Technology : From Sustainability to Next-Generation VLSI Design
Langue : anglais
Edité par CRC Press, 2025
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- Neuf
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nach der Bestellung gedruckt Neuware - Printed after ordering - The text offers readers a thorough understanding of the basic ideas and complex design procedures of nanoscale devices. It further discusses different types of semiconductor device structures and covers modeling and analyzing semiconductor devices using state-of-the-art simulation tools and techniques.
N° de réf. du vendeur 9781032876078
- Titre
- Field-Effect Transistors Technology : From Sustainability to Next-Generation VLSI Design
- Auteur
- Ashish Raman
- Éditeur
- CRC Press
- Année de publication
- 2025
- État de l'article
- Neu
- Reliure
- Buch
- Langue
- anglais
- ISBN à 10 chiffres
- 1032876077
- ISBN à 13 chiffres
- 9781032876078
- Poids de l'article
- 884 grammes
- Dimensions
- 240x161x30 mm
The text provides a comprehensive exploration of the transitions occurring in the field-effect transistor technology, covering the historical evolution, current advancements, and future trends.
Features
- Highlights the significance of field-effect transistors in VLSI and post-complementary metal-oxide-semiconductor design strategies.
- Discusses design challenges, different modeling aspects of field-effect transistors, and emerging materials in semiconductor design.
- Showcases the importance of simulation in forecasting device behavior, enhancing performance, and investigating novel device designs.
- Covers topics such as quantum computing, device simulation process on technology computer-aided design, carbon nanotubes, and organic field-effect transistors.
The text is primarily written for senior undergraduates, graduate students, and academic researchers in the fields of electrical engineering, electrical and communications engineering, materials science, nanoscience, and nanotechnology.
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À propos de l’auteur
Ashish Raman works as an associate professor, in the Department of Electronics and Communication Engineering, at Dr. B R Ambedkar National Institute of Technology Jalandhar Punjab, India. His main areas of interest are electronic devices and circuits, device modeling, device design and simulation, MEMS, and high-power devices. He has contributed research articles/papers to SCI, Scopus, and other reputed journals like IEEE Transactions of Electron Devices, IEEE Transactions on Nanotechnology, Elsevier, and Springer journals, and at international conferences. He is a member of the IEEE Electron Devices Society, the IEEE Solid-State Circuits Society, and the Institution of Engineers Society, India.
Prabhat Singh has been a Postdoctoral Fellow scholar, in the School of Electrical and Computer Sciences, at Indian Institute of Technology, Bhubaneswar, Odisha, India. His expertise is in cryogenic CMOS, solid-state devices, analog complementary metal oxide semiconductor (CMOS) integrated circuits, nanoscale device design, and simulation. He has contributed research articles/papers to SCI, Scopus, and reputed journals.
Naveen Kumar is a post-doctoral research associate, in the Device Modelling Group, James Watt School of Engineering, at the University of Glasgow, United Kingdom. His research revolves around different semiconductor devices including ultra-scale FETs, solar cells, photodiodes, HEMT, and quantum dots, and their prospective applications. He has authored/co-authored more than 35 research articles/ papers in reputed international journals and conference proceedings. His main areas of research interest include semiconductor device physics, MEMS/NEMS, and spintronics.
Sarabdeep Singh is currently working as an assistant professor, in the Department of Electronics and Communications Engineering, at Model Institute of Engineering and Technology, Jammu, India. His current research interests are microelectronics, sensors, and semiconductor devices focusing on Nanowire FETs, IMOS FETs, and Negative-Capacitance FETs. He has, to his credit, over twenty research papers published in national and international journals.
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