High Power Impulse Magnetron Sputtering : Fundamentals, Technologies, Challenges and Applications
Langue : anglais
Edité par Elsevier Inc, 2019
- Livre broché
- Neuf
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nach der Bestellung gedruckt Neuware - Printed after ordering - High Power Impulse Magnetron Sputtering: Fundamentals, Technologies, Challenges and Applications is an in-depth introduction to HiPIMS that emphasizes how this novel sputtering technique differs from conventional magnetron processes in terms of both discharge physics and the resulting thin film characteristics. Ionization of sputtered atoms is discussed in detail for various target materials. In addition, the role of self-sputtering, secondary electron emission and the importance of controlling the process gas dynamics, both inert and reactive gases, are examined in detail with an aim to generate stable HiPIMS processes. Lastly, the book also looks at how to characterize the HiPIMS discharge, including essential diagnostic equipment. Experimental results and simulations based on industrially relevant material systems are used to illustrate mechanisms controlling nucleation kinetics, column formation and microstructure evolution.…
N° de réf. du vendeur 9780128124543
- Titre
- High Power Impulse Magnetron Sputtering : Fundamentals, Technologies, Challenges and Applications
- Auteur
- Daniel Lundin
- Éditeur
- Elsevier Inc
- Année de publication
- 2019
- État de l'article
- Neu
- Reliure
- Taschenbuch
- Langue
- anglais
- ISBN à 10 chiffres
- 0128124547
- ISBN à 13 chiffres
- 9780128124543
- Poids de l'article
- 534 grammes
- Dimensions
- 229x152x21 mm
High Power Impulse Magnetron Sputtering: Fundamentals, Technologies, Challenges and Applications is an in-depth introduction to HiPIMS that emphasizes how this novel sputtering technique differs from conventional magnetron processes in terms of both discharge physics and the resulting thin film characteristics. Ionization of sputtered atoms is discussed in detail for various target materials. In addition, the role of self-sputtering, secondary electron emission and the importance of controlling the process gas dynamics, both inert and reactive gases, are examined in detail with an aim to generate stable HiPIMS processes.
Lastly, the book also looks at how to characterize the HiPIMS discharge, including essential diagnostic equipment. Experimental results and simulations based on industrially relevant material systems are used to illustrate mechanisms controlling nucleation kinetics, column formation and microstructure evolution.
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À propos de l’auteur
Tiberiu Minea, Ph.D. is currently serving as the Director the Laboratory of Physics and Gases and Plasmas at the University of Paris-Sud where he heads the group researching the theory and modeling of plasmas - discharge and surfaces. He is the President of the French Federation of Scientific Societies, as well as the president of Scientific and Technical Committee of SFV. Dr. Minea has published over 84 peer reviewed articles and has been an invited speaker at numerous conferences for his work on HiPIMS.
Jon Tomas Gudmundsson has spent the last 18 years as a professor at the University of Iceland both within the Physics and Engineering schools. He holds a Ph.D. from the University of California, Berkeley, in Nuclear Engineering and his current field of study includes the characterization of the high power impulse magnetron sputtering (HiPIMS) discharge using a Langmuir probe, as well as plasma characterization, plasma chemistry and photovoltaics. He was the keynote speaker at the 4th Magnetron, Ion Processing & Arc Technologies European Conference in December 2015 where he presented a paper on The current waveform in reactive high power impulse magnetron sputtering.
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