High Power Impulse Magnetron Sputtering

Langue : anglais

Edité par Elsevier Science Publishing Co Inc, US, 2019

0128124547 / 9780128124543

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High Power Impulse Magnetron Sputtering: Fundamentals, Technologies, Challenges and Applications is an in-depth introduction to HiPIMS that emphasizes how this novel sputtering technique differs from conventional magnetron processes in terms of both discharge physics and the resulting thin film characteristics. Ionization of sputtered atoms is discussed in detail for various target materials. In addition, the role of self-sputtering, secondary electron emission and the importance of controlling the process gas dynamics, both inert and reactive gases, are examined in detail with an aim to generate stable HiPIMS processes. Lastly, the book also looks at how to characterize the HiPIMS discharge, including essential diagnostic equipment. Experimental results and simulations based on industrially relevant material systems are used to illustrate mechanisms controlling nucleation kinetics, column formation and microstructure evolution.

N° de réf. du vendeur LU-9780128124543

Titre
High Power Impulse Magnetron Sputtering
Auteur
Jon Tomas Gudmundsson
Éditeur
Elsevier Science Publishing Co Inc, US
Année de publication
2019
État de l'article
New
Reliure
Paperback
Langue
anglais
ISBN à 10 chiffres
0128124547
ISBN à 13 chiffres
9780128124543
Poids de l'article
630 grammes

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