High-Resolution X-Ray Scattering

Langue : anglais

Edité par Springer, Springer Dez 2011, 2011

1441923071 / 9781441923073

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This item is printed on demand - Print on Demand Titel. Neuware -During the last 20 years interest in high-resolution x-ray diffractometry and reflectivity has grown as a result of the development of the semiconductor industry and the increasing interest in material research of thin layers of magnetic, organic, and other materials. For example, optoelectronics requires a subsequent epitaxy of thin layers of different semiconductor materials. Here, the individuallayer thicknesses are scaled down to a few atomic layers in order to exploit quantum effects. For reasons of electronic and optical confinement, these thin layers are embedded within much thicker cladding layers or stacks of multilayers of slightly different chemical composition. It is evident that the interface quality of those quantum weHs is quite important for the function of devices. Thin metallic layers often show magnetic properties which do not ap pear for thick layers or in bulk material. The investigation of the mutual interaction of magnetic and non-magnetic layers leads to the discovery of colossal magnetoresistance, for example. This property is strongly related to the thickness and interface roughness of covered layers.Springer-Verlag KG, Sachsenplatz 4-6, 1201 Wien 428 pp. Englisch.…

N° de réf. du vendeur 9781441923073

Titre
High-Resolution X-Ray Scattering
Auteur
Ullrich Pietsch
Éditeur
Springer, Springer Dez 2011
Année de publication
2011
État de l'article
Neu
Reliure
Taschenbuch
Langue
anglais
ISBN à 10 chiffres
1441923071
ISBN à 13 chiffres
9781441923073
Édition
2ème Édition
Poids de l'article
645 grammes
Dimensions
235x155x24 mm

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Emtmannsberg, BAYE, Allemagne

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