Optical Imaging in Projection Microlithography

Langue : anglais

Edité par SPIE Press, US, 2005

0819458295 / 9780819458292

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Here for the first time is an integrated mathematical view of the physics and numerical modeling of optical projection lithography that efficiently covers the full spectrum of the important concepts. Alfred Wong offers rigorous underpinning, clarity in systematic formulation, physical insight into emerging ideas, as well as a system level view of the parameter tolerances required in manufacturing. Readers with a good working knowledge of calculus can follow the step-by-step development, and technologists can gather general concepts and the key equations that result. Even the casual reader will gain a perspective on the key concepts, which will likely help facilitate dialog among technologists.

N° de réf. du vendeur LU-9780819458292

Titre
Optical Imaging in Projection Microlithography
Auteur
Alfred K. Wong
Éditeur
SPIE Press, US
Année de publication
2005
État de l'article
New
Reliure
Paperback
Langue
anglais
ISBN à 10 chiffres
0819458295
ISBN à 13 chiffres
9780819458292
Édition
illustrated Edition.
Poids de l'article
585 grammes

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