Titre: Plasma Etching: Fundamentals and Applications (Series on Semiconductor Science and Technology)
�diteur: Oxford University Press
Date de parution: 1998
Langue: anglais
ISBN � 10 chiffres: 019856287X
ISBN � 13 chiffres: 9780198562870
Reliure: Couverture rigide
�tat de l'article: New

A propos de ce titre

Synopsis

The focus of this book is the remarkable advances in understanding of low pressure RF (radio frequency) glow discharges. A basic analytical theory and plasma physics are explained. Plasma diagnostics are also covered before the practicalities of etcher use are explored.

� propos de l?auteur

Professor Minoru Sugawara, Hachinohe Institute of Technology, Hachinohe-city, Aomori 031, Japan. Fax: (0) 178 25 1430

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