Principles of Chemical Vapor Deposition

Langue : anglais

Edité par Kluwer Academic Publishers, 2003

1402012489 / 9781402012488

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Provides an introduction to heat and mass transfer, surface and gas phase chemistry, and plasma discharge characteristics. This book includes discussions of practical films and reactors to help in the development of processes and equipment. It is illustrated to assist the reader in forming the mental images which are the basis of understanding. Num Pages: 273 pages, biography. BIC Classification: TBC; TDM. Category: (P) Professional & Vocational; (UP) Postgraduate, Research & Scholarly. Dimension: 235 x 155 x 17. Weight in Grams: 581. . 2003. 2003rd Edition. hardcover. . . . . Books ship from the US and Ireland.

N° de réf. du vendeur V9781402012488

Titre
Principles of Chemical Vapor Deposition
Auteur
Dobkin, Daniel M.; Zuraw, M. K.
Éditeur
Kluwer Academic Publishers
Année de publication
2003
État de l'article
New
Reliure
Couverture rigide
Langue
anglais
ISBN à 10 chiffres
1402012489
ISBN à 13 chiffres
9781402012488

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