Strained-Si Heterostructure Field Effect Devices

Langue : anglais

Edité par Taylor & Francis Ltd Jan 2007, 2007

0750309938 / 9780750309936

Série : Livre 3 sur 21 - Series in Materials Science and Engineering

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Neuware - This book brings together the materials science, manufacturing processes, and innovative research and developments of SiGe and strained-Si for the first time in book form. It contains the latest state-of-the-art information on strain engineering in silicon CMOS and strained-Si-based integrated circuit technology as well as strain-engineered MOSFETs. The book presents various aspects of silicon heterostructure materials, processes, devices, and applications. It also includes up-to-date research results, a comprehensive list of seminal references, 300 figures, and 30 tables. The diversity of R&D activities and results presented in this book will undoubtedly spark further development in the field.

Titre
Strained-Si Heterostructure Field Effect Devices
Auteur
C.K Maiti
Éditeur
Taylor & Francis Ltd Jan 2007
Année de publication
2007
État de l'article
Neu
Reliure
Buch
Langue
anglais
ISBN à 10 chiffres
0750309938
ISBN à 13 chiffres
9780750309936
Poids de l'article
735 grammes
Dimensions
234x156x0 mm
Série
Livre 3 sur 21: Series in Materials Science and Engineering

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