Surface Chemical Cleaning and Passivation for Semiconductor Processing

Langue : anglais

Edité par Materials Research Society, Pittsburgh, Pennsylvania

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4to. Hardcover. 518p. Exlibrary with usual indicators. Slight crack in binding near spine.

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Détails bibliographiques

Titre
Surface Chemical Cleaning and Passivation for Semiconductor Processing
Auteur
Gregg s. Higashi, Eugene A. Irene, Tadahiro Ohmi
Éditeur
Materials Research Society, Pittsburgh, Pennsylvania
État de l'article
Assez bon
Reliure
Couverture rigide
Langue
anglais

Moon Books NYC

New York, NY, Etats-Unis

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