Updates in Advanced Lithography

Langue : anglais

Edité par Intechopen Jul 2013, 2013

9535111752 / 9789535111757

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This item is printed on demand - it takes 3-4 days longer - Neuware -Advanced lithography grows up to several fields such as nano-lithography, micro electro-mechanical system (MEMS) and nano-phonics, etc. Nano-lithography reaches to 20 nm size in advanced electron device. Consequently, we have to study and develop true single nanometer size lithography. One of the solutions is to study a fusion of top down and bottom up technologies such as EB drawing and self-assembly with block copolymer. In MEMS and nano-photonics, 3 dimensional structures are needed to achieve some functions in the devices for the applications. Their formation are done by several methods such as colloid lithography, stereo-lithography, dry etching, sputtering, deposition, etc. This book covers a wide area regarding nano-lithography, nano structure and 3-dimensional structure, and introduces readers to the methods, methodology and its applications. 262 pp. Englisch.

N° de réf. du vendeur 9789535111757

Titre
Updates in Advanced Lithography
Auteur
Sumio Hosaka
Éditeur
Intechopen Jul 2013
Année de publication
2013
État de l'article
Neu
Reliure
Buch
Langue
anglais
ISBN à 10 chiffres
9535111752
ISBN à 13 chiffres
9789535111757
Poids de l'article
782 grammes
Dimensions
266x185x23 mm

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