Directed Self-assembly of Block Co-polymers for Nano-manufacturing

Langue : anglais

Edité par Elsevier Science & Technology Aug 2015, 2015

0081002505 / 9780081002506

Série : Livre 89 sur 203 - Woodhead Publishing Series in Electronic and Optical Materials

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This item is printed on demand - it takes 3-4 days longer - Neuware -The directed self-assembly (DSA) method of patterning for microelectronics uses polymer phase-separation to generate features of less than 20nm, with the positions of self-assembling materials externally guided into the desired pattern. Directed self-assembly of Block Co-polymers for Nano-manufacturing reviews the design, production, applications and future developments needed to facilitate the widescale adoption of this promising technology. Beginning with a solid overview of the physics and chemistry of block copolymer (BCP) materials, Part 1 covers the synthesis of new materials and new processing methods for DSA. Part 2 then goes on to outline the key modelling and characterization principles of DSA, reviewing templates and patterning using topographical and chemically modified surfaces, line edge roughness and dimensional control, x-ray scattering for characterization, and nanoscale driven assembly. Finally, Part 3 discusses application areas and related issues for DSA in nano-manufacturing, including for basic logic circuit design, the inverse DSA problem, design decomposition and the modelling and analysis of large scale, template self-assembly manufacturing techniques. 328 pp. Englisch.…

N° de réf. du vendeur 9780081002506

Titre
Directed Self-assembly of Block Co-polymers for Nano-manufacturing
Auteur
Paul Nealey
Éditeur
Elsevier Science & Technology Aug 2015
Année de publication
2015
État de l'article
Neu
Reliure
Buch
Langue
anglais
ISBN à 10 chiffres
0081002505
ISBN à 13 chiffres
9780081002506
Poids de l'article
229 grammes
Dimensions
229x142x21 mm
Série
Livre 89 sur 203: Woodhead Publishing Series in Electronic and Optical Materials

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