The Source/Drain Engineering of Nanoscale Germanium-based MOS Devices (Springer Theses) [Hardcover] Li, Zhiqiang
Langue : anglais
Edité par Springer, 2016
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- Titre
- The Source/Drain Engineering of Nanoscale Germanium-based MOS Devices (Springer Theses) [Hardcover] Li, Zhiqiang
- Auteur
- Li, Zhiqiang
- Éditeur
- Springer
- Année de publication
- 2016
- État de l'article
- As New
- Reliure
- Hardcover
- Langue
- anglais
- ISBN à 10 chiffres
- 366249681X
- ISBN à 13 chiffres
- 9783662496817
- Édition
- 1. Auflage
- Série
- Livre 107 sur 797: Springer Theses
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À propos de l’auteur
Dr. Li received his Bachelor degree of Science from Sichuan University in 2009, and Ph.D from Peking University in 2014
Prizes and awards:
2009-2014, Peking University
Leo KoGuan Scholarship, Chenming Hu Scholarship, Merit Student, Creative Talent Award.
2005-2009, Sichuan University
National Scholarship (twice), National Encouragement Scholarship, Xinyuan Scholarship (twice),
Comprehensive First-class Scholarship, Excellent Student Leader.
Publications:
1. Zhiqiang Li, Xia An, Min Li, Quanxin Yun, Meng Lin, Ming Li, Xing Zhang, and Ru Huang, "Low Electron Schottky Barrier Height of NiGe/Ge Achieved by Ion-Implantation after Germanidation Technique," IEEE Electron Device Lett., vol. 33, no. 12, pp. 1687-1689, Dec. 2012.
2. Zhiqiang Li, Xia An, Min Li, Quanxin Yun, Meng Lin, Ming Li, Xing Zhang, and Ru Huang, "Morphology and Electrical Performance Improvement of NiGe/Ge Contact by P and Sb Co-implantation," IEEE Electron Device Lett., vol. 34, no. 5, pp. 596-598, May. 2013.
3. Zhiqiang Li, Xia An, Quanxin Yun, Meng Lin, Min Li, Ming Li, Xing Zhang, and Ru Huang, "Low Specific Contact Resistivity to n-Ge and Well-Behaved Ge n⁺/p Diode Achieved by Multiple Implantation and Multiple Annealing Technique," IEEE Electron Device Lett., vol. 34, no. 9, pp. 1097-1099, Sep. 2013.
4. Zhiqiang Li, Xia An, Quanxin Yun, Meng Lin, Xing Zhang and Ru Huang, "Tuning Schottky Barrier Height in Metal/n-Type Germanium by Inserting an Ultrathin Yttrium Oxide Film," ECS Solid State Lett., Vol. 1, no. 4, pp. Q33-Q34, 2012.
5. Zhiqiang Li, Xia An, Min Li, Quanxin Yun, Meng Lin, Ming Li, Xing Zhang, and Ru Huang, "Study on Schottky Barrier Modulation of NiGe/Ge by Ion-implantation after Germanidation Technique," The 11th ICSICT, Xi'an, 2012.
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