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Sensor-based Modeling and Monitoring of Chemical Mechanical Polishing
Vendeur : GreatBookPrices, Columbia, MD, Etats-Unis
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Expédition nationale : Etats-UnisQuantité disponible : Plus de 20 disponibles
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Sensor-based Modeling and Monitoring of Chemical Mechanical Polishing
Vendeur : Lucky's Textbooks, Dallas, TX, Etats-Unis
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Sensor-based Modeling and Monitoring of Chemical Mechanical Polishing
Vendeur : California Books, Miami, FL, Etats-Unis
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Sensor-based Modeling and Monitoring of Chemical Mechanical Polishing
Vendeur : Ria Christie Collections, Uxbridge, Royaume-Uni
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Sensor-based Modeling and Monitoring of Chemical Mechanical Polishing: Analysis of Experimental Sensor Data Integrating Statistical Time Series Analysis and Nonlinear Dynamics (Chaos Theory) Paradigms
Langue: anglais
Edité par VDM Verlag Dr. M�ller 2008-12-03, 2008
ISBN 10 : 363903564X ISBN 13 : 9783639035643
Vendeur : Chiron Media, Wallingford, Royaume-Uni
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Sensor-based Modeling and Monitoring of Chemical Mechanical Polishing
Vendeur : GreatBookPricesUK, Woodford Green, Royaume-Uni
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Sensor-based Modeling and Monitoring of Chemical Mechanical Polishing
Vendeur : GreatBookPricesUK, Woodford Green, Royaume-Uni
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Sensor-based Modeling and Monitoring of Chemical Mechanical Polishing
Vendeur : Mispah books, Redhill, SURRE, Royaume-Uni
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Sensor-based Modeling and Monitoring of Chemical Mechanical Polishing
Vendeur : GreatBookPrices, Columbia, MD, Etats-Unis
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Sensorbased Modeling and Monitoring of Chemical Mechanical Polishing Analysis of Experimental Sensor Data Integrating Statistical Time Series Analysis and Nonlinear Dynamics Chaos Theory Paradigms
Vendeur : PBShop.store US, Wood Dale, IL, Etats-Unis
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Sensorbased Modeling and Monitoring of Chemical Mechanical Polishing Analysis of Experimental Sensor Data Integrating Statistical Time Series Analysis and Nonlinear Dynamics Chaos Theory Paradigms
Vendeur : PBShop.store UK, Fairford, GLOS, Royaume-Uni
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Ajouter au panierEtat : New. Dieser Artikel ist ein Print on Demand Artikel und wird nach Ihrer Bestellung fuer Sie gedruckt. This book provides a framework for real time controlof the Chemical Mechanical Planarization (CMP)process based on combining nonlinear dynamicsprinciples with statistical process monitoringapproaches. CMP has a directbearing on.
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Sensor-based Modeling and Monitoring of Chemical Mechanical Polishing : Analysis of Experimental Sensor Data Integrating Statistical Time Series Analysis and Nonlinear Dynamics (Chaos Theory) Paradigms
Vendeur : AHA-BUCH GmbH, Einbeck, Allemagne
Évaluation du vendeur 5 sur 5 étoiles
EUR 80,77
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Ajouter au panierTaschenbuch. Etat : Neu. nach der Bestellung gedruckt Neuware - Printed after ordering - This book provides a framework for real time controlof the Chemical Mechanical Planarization (CMP)process based on combining nonlinear dynamicsprinciples with statistical process monitoringapproaches. CMP has a directbearing on the computational speed and dimensionalcharacteristics of solid state devices. The challengein CMP may be narrowed to domains envelopingproductivity, measured in terms of material removalrate (MRR), and quality which is usually specified interms of surface roughness - Ra, within wafernon-uniformity (WIWNU), defect rate, etc. In thiswork, experimental investigations of CMP are executedwith the aid of sensors. The analysis of the datareveals the presence of pronounced stochastic-dynamiccharacteristics. As a result, we derive a processcontrol method integrating statistical time seriesanalysis and nonlinear dynamics which captures ~ 80%(linear R-sq) of the variation in MRR. In this mannera novel paradigm for effective process control in CMPhas been presented.
