9783540416821 - fundamental aspects of silicon oxidation (11 résultats)
Langue : anglais
Edité par Springer, 2001
Série : Livre 47 sur 233 - Springer Series in Materials Science
- Couverture rigide
Vendeur : Ria Christie Collections, Uxbridge, Royaume-UniRia Christie Collections
Contacter le vendeurVendeur avec une évaluation de 5 étoilesEtat: Neuf
EUR 116,63
EUR 14,00 expéditionExpédition depuis Royaume-Uni vers Etats-UnisQuantité disponible : Plus de 20 disponibles
Etat : New. In.
Langue : anglais
Edité par Springer, 2001
Série : Livre 47 sur 233 - Springer Series in Materials Science
- Couverture rigide
Vendeur : Books Puddle, New York, NY, Etats-UnisBooks Puddle
Contacter le vendeurVendeur avec une évaluation de 4 étoilesEtat: Neuf
EUR 145,57
EUR 3,46 expéditionExpédition nationale : Etats-UnisQuantité disponible : 4 disponible(s)
Etat : New. pp. 280.
Langue : anglais
Edité par Springer Verlag, 2001
Série : Livre 47 sur 233 - Springer Series in Materials Science
- Couverture rigide
Vendeur : Revaluation Books, Exeter, Royaume-UniRevaluation Books
Contacter le vendeurVendeur avec une évaluation de 5 étoilesEtat: Neuf
EUR 155,41
EUR 14,61 expéditionExpédition depuis Royaume-Uni vers Etats-UnisQuantité disponible : 2 disponible(s)
Hardcover. Etat : Brand New. 1st edition. 273 pages. 9.25x6.00x0.50 inches. In Stock.
- Autres images
Langue : anglais
Edité par Springer, 2001
Série : Livre 47 sur 233 - Springer Series in Materials Science
- Couverture souple
Vendeur : AHA-BUCH GmbH, Einbeck, AllemagneAHA-BUCH GmbH
Contacter le vendeurVendeur avec une évaluation de 5 étoilesEtat: Neuf
EUR 112,77
EUR 62,15 expéditionExpédition depuis Allemagne vers Etats-UnisQuantité disponible : 1 disponible(s)
Taschenbuch. Etat : Neu. Druck auf Anfrage Neuware - Printed after ordering - The idea for a book dealing specifically with elementary processes in silicon oxidation was formulated after a stimulating symposium that I organized at the American Physical Society meeting in March, 1998. The symposium, en titled 'Dynamics of silicon… etching and oxidation', explored the mechanisms governing silicon oxidation. With three experimental talks (Hines, Weldon and Gibson) and two theoretical presentations (Pasquarello and Pantelides), it provided a good cross-section of the recent efforts to characterize the in terfacial region of silicon oxide grown on silicon. The novelty of this work comes from the present experimental and theo retical advances that allow the investigation of the formation of ultra-thin silicon oxides. Although structural characterization of bulk silicon oxides and electrical characterization of thin oxides and their interfaces with silicon have produced an extensive body of work over more than forty years, a mechanis tic understanding of the initial oxidation processes has remained elusive. In the past, both the experimental and theoretical efforts have been thwarted by the complexity of dealing with the formation of a mostly amorphous oxide on a crystalline substrate. In this book we present a survey of the state-of-the-art methods, both ex perimental and theoretical, specifically dealing with the issue of amorphous dielectric growth. Each chapter critically reviews and cross-correlates infor mation provided by experimental techniques, such as microscopy, spectro scopy, or scattering, with results obtained using theoretical methods, such as ab initio electronic structure calculations, molecular dynamics, and Monte Carlo simulations.
Langue : anglais
Edité par Springer, 2001
Série : Livre 47 sur 233 - Springer Series in Materials Science
- Couverture rigide
Vendeur : Mispah books, Redhill, SURRE, Royaume-UniMispah books
Contacter le vendeurVendeur avec une évaluation de 4 étoilesEtat: Occasion - Comme neuf
EUR 182,97
EUR 29,22 expéditionExpédition depuis Royaume-Uni vers Etats-UnisQuantité disponible : 1 disponible(s)
Hardcover. Etat : Like New. LIKE NEW. SHIPS FROM MULTIPLE LOCATIONS. book.
Langue : anglais
Edité par Springer, 2001
Série : Livre 47 sur 233 - Springer Series in Materials Science
- Couverture rigide
- impression à la demande
Vendeur : Basi6 International, Irving, TX, Etats-UnisBasi6 International
Contacter le vendeurVendeur avec une évaluation de 5 étoilesEtat: Neuf
EUR 99,22
Frais de port gratuitsExpédition nationale : Etats-UnisQuantité disponible : 10 disponible(s)
Etat : Brand New. New. US edition. Print on demand title. Delivery takes 20-25 days. Excellent Customer Service.
- Autres images
Langue : anglais
Edité par Springer Berlin Heidelberg Apr 2001, 2001
Série : Livre 47 sur 233 - Springer Series in Materials Science
- Couverture souple
- impression à la demande
Vendeur : BuchWeltWeit Ludwig Meier e.K., Bergisch Gladbach, AllemagneBuchWeltWeit Ludwig Meier e.K.
Contacter le vendeurVendeur avec une évaluation de 5 étoilesEtat: Neuf
EUR 106,99
EUR 23,00 expéditionExpédition depuis Allemagne vers Etats-UnisQuantité disponible : 2 disponible(s)
Taschenbuch. Etat : Neu. This item is printed on demand - it takes 3-4 days longer - Neuware -Discusses silicon oxidation in a tutorial fashion from both experimental and theoretical viewpoints. The authors report on the state of the art both at Lucent Technology and in academic research. The book will appeal to researchers and…advanced students. 280 pp. Englisch.
- Autres images
Langue : anglais
Edité par Springer Berlin Heidelberg, 2001
Série : Livre 47 sur 233 - Springer Series in Materials Science
- Couverture rigide
- impression à la demande
Vendeur : moluna, Greven, Allemagnemoluna
Contacter le vendeurVendeur avec une évaluation de 5 étoilesEtat: Neuf
EUR 92,27
EUR 48,99 expéditionExpédition depuis Allemagne vers Etats-UnisQuantité disponible : Plus de 20 disponibles
Etat : New. Dieser Artikel ist ein Print on Demand Artikel und wird nach Ihrer Bestellung fuer Sie gedruckt. This is the only book that addresses fundamental issues in silicon oxidation at a level that will remain useful for 10-20 yearsBecause it combines both state-of-the-art experimental approaches and theoretical methods it s…hould become a reference book fo.
Langue : anglais
Edité par Springer, 2001
Série : Livre 47 sur 233 - Springer Series in Materials Science
- Couverture rigide
- impression à la demande
Vendeur : Majestic Books, Hounslow, Royaume-UniMajestic Books
Contacter le vendeurVendeur avec une évaluation de 4 étoilesEtat: Neuf
EUR 149,77
EUR 7,60 expéditionExpédition depuis Royaume-Uni vers Etats-UnisQuantité disponible : 4 disponible(s)
Etat : New. Print on Demand pp. 280 Illus.
Langue : anglais
Edité par Springer, 2001
Série : Livre 47 sur 233 - Springer Series in Materials Science
- Couverture rigide
- impression à la demande
Vendeur : Biblios, frankfurt am main, HESSE, AllemagneBiblios
Contacter le vendeurVendeur avec une évaluation de 4 étoilesEtat: Neuf
EUR 152,92
EUR 9,95 expéditionExpédition depuis Allemagne vers Etats-UnisQuantité disponible : 4 disponible(s)
Etat : New. PRINT ON DEMAND pp. 280.
- Autres images
Langue : anglais
Edité par Springer Berlin Heidelberg, Springer Berlin Heidelberg Apr 2001, 2001
Série : Livre 47 sur 233 - Springer Series in Materials Science
- Couverture souple
- impression à la demande
Vendeur : buchversandmimpf2000, Emtmannsberg, BAYE, Allemagnebuchversandmimpf2000
Contacter le vendeurVendeur avec une évaluation de 5 étoilesEtat: Neuf
EUR 106,99
EUR 60,00 expéditionExpédition depuis Allemagne vers Etats-UnisQuantité disponible : 1 disponible(s)
Taschenbuch. Etat : Neu. This item is printed on demand - Print on Demand Titel. Neuware -The idea for a book dealing specifically with elementary processes in silicon oxidation was formulated after a stimulating symposium that I organized at the American Physical Society meeting in March, 1998. The symposium, en titled 'Dynamic…s of silicon etching and oxidation', explored the mechanisms governing silicon oxidation. With three experimental talks (Hines, Weldon and Gibson) and two theoretical presentations (Pasquarello and Pantelides), it provided a good cross-section of the recent efforts to characterize the in terfacial region of silicon oxide grown on silicon. The novelty of this work comes from the present experimental and theo retical advances that allow the investigation of the formation of ultra-thin silicon oxides. Although structural characterization of bulk silicon oxides and electrical characterization of thin oxides and their interfaces with silicon have produced an extensive body of work over more than forty years, a mechanis tic understanding of the initial oxidation processes has remained elusive. In the past, both the experimental and theoretical efforts have been thwarted by the complexity of dealing with the formation of a mostly amorphous oxide on a crystalline substrate. In this book we present a survey of the state-of-the-art methods, both ex perimental and theoretical, specifically dealing with the issue of amorphous dielectric growth. Each chapter critically reviews and cross-correlates infor mation provided by experimental techniques, such as microscopy, spectro scopy, or scattering, with results obtained using theoretical methods, such as ab initio electronic structure calculations, molecular dynamics, and Monte Carlo simulations.Springer Verlag GmbH, Tiergartenstr. 17, 69121 Heidelberg 280 pp. Englisch.
