Laser processing thin films microstructures par boyd ian (13 résultats)
Edité par Springer Berlin 1987, 1987
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Laser Processing of Thin Films and Microstructures : Oxidation, Deposition and Etching of Insulators
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VIII, 320 S. mit zahlreichen Abbildungen, 3540179518 Sprache: Englisch Gewicht in Gramm: 600 Groß 8°, Original-Pappband (Hardcover), Bibliotheks-Exemplar (Privatbibliothek) mit Rückenschild, Stempel auf Vorsatz und Titel, Einband in selbstklebende transparente Schutzfolie eingeschlagen, insgesamt gutes und innen sauberes Exempla…r, (library sample in good condition).
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Laser Processing of Thin Films and Microstructures : Oxidation, Deposition and Etching of Insulators
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Taschenbuch. Etat : Neu. Druck auf Anfrage Neuware - Printed after ordering - This text aims at providing a comprehensive and up to date treatment of the new and rapidly expanding field of laser pro cessing of thin films, particularly, though by no means exclu sively, of recent progress in the dielectrics area. The volume covers… all the major aspects of laser processing technology in general, from the background and history to its many potential applications, and from the theory to the necessary experimental considerations. It highlights and compares the vast array of processing conditions now available with intense photon beams, as well as the properties of the films and microstructures pro duced. Separate chapters deal with the fundamentals of laser interactions with matter, and with experimental considerations. Detailed consideration is also given to film deposition, nuclea tion and growth, oxidation and annealing, as well as selective and localized. etching and ablation, not only in terms of the various photon-induced processes, but also with respect to traditional as well as other competing new technologies.
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Hardcover/ Pappband. Etat : Gut. 320 S. Materialwissenschaft Guter Zustand/ Good. Ex-Library. ha1086408 Sprache: Englisch Gewicht in Gramm: 650.
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Etat : gut. 1987. Laser Processing of Thin Films and Microstructures. Oxidation, Deposition and Etching of Insulators. (= Springer Series in Materials Science, Volume 3). In deutscher Sprache. pages.
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Taschenbuch. Etat : Neu. This item is printed on demand - it takes 3-4 days longer - Neuware -This text aims at providing a comprehensive and up to date treatment of the new and rapidly expanding field of laser pro cessing of thin films, particularly, though by no means exclu sively, of recent progress in the dielectrics area. T…he volume covers all the major aspects of laser processing technology in general, from the background and history to its many potential applications, and from the theory to the necessary experimental considerations. It highlights and compares the vast array of processing conditions now available with intense photon beams, as well as the properties of the films and microstructures pro duced. Separate chapters deal with the fundamentals of laser interactions with matter, and with experimental considerations. Detailed consideration is also given to film deposition, nuclea tion and growth, oxidation and annealing, as well as selective and localized. etching and ablation, not only in terms of the various photon-induced processes, but also with respect to traditional as well as other competing new technologies. 332 pp. Englisch.
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Taschenbuch. Etat : Neu. This item is printed on demand - Print on Demand Titel. Neuware -This text aims at providing a comprehensive and up to date treatment of the new and rapidly expanding field of laser pro cessing of thin films, particularly, though by no means exclu sively, of recent progress in the dielectrics area. The v…olume covers all the major aspects of laser processing technology in general, from the background and history to its many potential applications, and from the theory to the necessary experimental considerations. It highlights and compares the vast array of processing conditions now available with intense photon beams, as well as the properties of the films and microstructures pro duced. Separate chapters deal with the fundamentals of laser interactions with matter, and with experimental considerations. Detailed consideration is also given to film deposition, nuclea tion and growth, oxidation and annealing, as well as selective and localized. etching and ablation, not only in terms of the various photon-induced processes, but also with respect to traditional as well as other competing new technologies.Springer-Verlag KG, Sachsenplatz 4-6, 1201 Wien 332 pp. Englisch.
