Rapid thermal processing future (12 résultats)

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  • Langue : anglais

    Edité par Elsevier Science, 2003

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    Vendeur : Basi6 International, Irving, TX, Etats-UnisBasi6 International

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    Edité par Elsevier Science, 2003

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    Edité par Elsevier Science, 2003

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    Vendeur : Ria Christie Collections, Uxbridge, Royaume-UniRia Christie Collections

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  • Langue : anglais

    Edité par Elsevier Science, 2003

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    Vendeur : GreatBookPrices, Columbia, MD, Etats-UnisGreatBookPrices

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  • Langue : anglais

    Edité par Elsevier Science, 2003

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    Vendeur : GreatBookPricesUK, Woodford Green, Royaume-UniGreatBookPricesUK

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  • Langue : anglais

    Edité par Elsevier Science, 2003

    0444513396 / 9780444513397

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    Vendeur : GreatBookPricesUK, Woodford Green, Royaume-UniGreatBookPricesUK

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    EUR 170,25

    EUR 17,49 expédition 
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  • Langue : anglais

    Edité par Elsevier, 2003

    0444513396 / 9780444513397

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    Vendeur : Books Puddle, New York, NY, Etats-UnisBooks Puddle

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    EUR 212,09

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    Expédition nationale : Etats-Unis

    Quantité disponible : 1 disponible(s)

    Etat : New. pp. 164.

  • Langue : anglais

    Edité par Elsevier, 2003

    0444513396 / 9780444513397

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    Vendeur : Majestic Books, Hounslow, Royaume-UniMajestic Books

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    EUR 220,72

    EUR 7,58 expédition 
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    Quantité disponible : 1 disponible(s)

    Etat : New. pp. 164 Illus.

  • Langue : anglais

    Edité par Elsevier BV Apr 2003, 2003

    0444513396 / 9780444513397

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    Vendeur : AHA-BUCH GmbH, Einbeck, AllemagneAHA-BUCH GmbH

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    Taschenbuch. Etat : Neu. Neuware - This volume is a collection of papers which were presented at the 2001 International Conference on Rapid Thermal Processing (RTP 2001) held at Ise Shima, Mie, on November 14-16, 2001. This symposium is second conference followed the previous successful first International RTP conference held at Hokkaido in 1997. The RTP 2001 covered the latest developments in RTP and other short-time processing continuously aiming to point out the future direction in the Silicon ULSI devices and II-VI, III-V compound semiconductor devices. This book covers the following areas: advanced MOS gate stack, integration technologies, advancd channel engineering including shallow junction, SiGe, hetero-structure, novel metallization, inter-connect, silicidation, low-k materials, thin dielectrics including gate dielectrics and high-k materials, thin film deposition including SiGe, SOI and SiC, process and device modelling, Laser-assisted crystallization and TFT device fabrication technologies, temperature monitoring and slip-free technologies.

  • Langue : anglais

    Edité par Elsevier Science, 2003

    0444513396 / 9780444513397

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    Vendeur : PBShop.store US, Wood Dale, IL, Etats-UnisPBShop.store US

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    PAP. Etat : New. New Book. Shipped from UK. THIS BOOK IS PRINTED ON DEMAND. Established seller since 2000.

  • Langue : anglais

    Edité par Elsevier Science, 2003

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    Vendeur : PBShop.store UK, Fairford, GLOS, Royaume-UniPBShop.store UK

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    EUR 156,34

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    Edité par Elsevier Science & Technology, 2003

    0444513396 / 9780444513397

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    Vendeur : THE SAINT BOOKSTORE, Southport, Royaume-UniTHE SAINT BOOKSTORE

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    EUR 214,76

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