Statistical theory analysis experimental (12 résultats)
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Hardcover. Etat : UsedGood. Hardcover; Statistics: Textbooks and Monographs, Volume 8; surplus library copy with the usual stampings and reference number written on the spine; fa ding, edge wear, and slight bubbling to cover boards; otherwise in good con dition with clean text and tight binding.
Langue : anglais
Edité par McGraw Hill, 1952
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Hardcover. Hardcover first edition with light cover wear, small indentations/nicks in cover. Hinges sound, uncracked; pages tight, unmarked, although some pages show light, soft creasing. No DJ. Not a former library copy. .
Edité par McGraw Hill, New York, u.a. :, 1952
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Ajouter au panierLeinen. Etat : Gut. 23cm; XIX.; 399; Gewebe (Grüner Leinen). Sprache: Englisch, Zustand: Gut bis Sehr Gut min. bis gering gebräunt (Innen); Besitzerstempel; Einband Außen hat geringe bis leichte Gebrauchsspuren; Nichtöffentliches Archivex. mit Klebestreifenrest (Außen); * Die Photos sind original von uns erstellt worden, u.a. er…kennbar an einem kleinen weißen Stück Papier im oberen Schnitt. Ab und an verwenden Suchmaschinen Verlagsphotos, bei den Portalen selbst, werden aber nur unsere Originalphotos gezeigt.
Edité par McGraw-Hill, 1952
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Taschenbuch. Etat : Neu. Sensor-based Modeling and Monitoring of Chemical Mechanical Polishing | Analysis of Experimental Sensor Data Integrating Statistical Time Series Analysis and Nonlinear Dynamics (Chaos Theory) Paradigms | Prahalada Rao | Taschenbuch | Kartoniert | Englisch | 2008 | VDM Verlag Dr. Müller | EAN 978363903564…3 | Verantwortliche Person für die EU: OmniScriptum GmbH & Co. KG, Bahnhofstr. 28, 66111 Saarbrücken, info[at]akademikerverlag[dot]de | Anbieter: preigu.
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Taschenbuch. Etat : Neu. nach der Bestellung gedruckt Neuware - Printed after ordering - This book provides a framework for real time controlof the Chemical Mechanical Planarization (CMP)process based on combining nonlinear dynamicsprinciples with statistical process monitoringapproaches. CMP has a directbearing on the computati…onal speed and dimensionalcharacteristics of solid state devices. The challengein CMP may be narrowed to domains envelopingproductivity, measured in terms of material removalrate (MRR), and quality which is usually specified interms of surface roughness - Ra, within wafernon-uniformity (WIWNU), defect rate, etc. In thiswork, experimental investigations of CMP are executedwith the aid of sensors. The analysis of the datareveals the presence of pronounced stochastic-dynamiccharacteristics. As a result, we derive a processcontrol method integrating statistical time seriesanalysis and nonlinear dynamics which captures ~ 80%(linear R-sq) of the variation in MRR. In this mannera novel paradigm for effective process control in CMPhas been presented.
