Daniel l flamm (23 résultats)
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Surface Conditioning of Vacuum Systems. American Vacuum Society Series 8
Robert A. Langley, Daniel L. Flamm, H. C. Hseuh, Wen L. Hsu & Thomas W. Rusch, editors
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Hardcover. Etat : VERY GOOD. hardcover, no DJ, edited by Orlando Aucielio and Daniel L. Flamm, Academic Press, 1989, ISBN 0120676354, 456 pp. including index, illustrated with drawings, tables and graphs. VERY GOOD (previous owner name and book store price on the front flyleaf, previous owner name on front pastedown and fore-edg…e). Inner pages are unmarked and clean. The boards have a vinyl cover.
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Taschenbuch. Etat : Neu. Druck auf Anfrage Neuware - Printed after ordering - An understanding of the processes involved in the basic and applied physics and chemistry of the interaction of plasmas with materials is vital to the evolution of technologies such as those relevant to microelectronics, fusion and space. The subjects…dealt with in the book include: the physics and chemistry of plasmas, plasma diagnostics, physical sputtering and chemical etching, plasma assisted deposition of thin films, ion and electron bombardment, and plasma processing of inorganic and polymeric materials. The book represents a concentration of a substantial amount of knowledge acquired in this area - knowledge which was hitherto widely scattered throughout the literature - and thus establishes a baseline reference work for both established and tyro research workers.
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Buch. Etat : Neu. Druck auf Anfrage Neuware - Printed after ordering - An understanding of the processes involved in the basic and applied physics and chemistry of the interaction of plasmas with materials is vital to the evolution of technologies such as those relevant to microelectronics, fusion and space. The subjects dealt w…ith in the book include: the physics and chemistry of plasmas, plasma diagnostics, physical sputtering and chemical etching, plasma assisted deposition of thin films, ion and electron bombardment, and plasma processing of inorganic and polymeric materials. The book represents a concentration of a substantial amount of knowledge acquired in this area - knowledge which was hitherto widely scattered throughout the literature - and thus establishes a baseline reference work for both established and tyro research workers.
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Paperback. Etat : Brand New. 576 pages. 9.25x6.10x1.30 inches. In Stock.
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Plasma-Surface Interactions and Processing of Materials
Auciello, O.|Gras-Martí, Alberto|Valles-Abarca, Jose Antonio|Flamm, Daniel L.
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Etat : New. Dieser Artikel ist ein Print on Demand Artikel und wird nach Ihrer Bestellung fuer Sie gedruckt. Proceedings of the NATO Advanced Study Institute, Alicante, Spain, September 4-16, 1988 An understanding of the processes involved in the basic and applied physics and chemistry of the interaction of plasmas with material…s is vital to the evoluti.
Plasma-Surface Interactions and Processing of Materials
Auciello, Orlando|Gras-Martí, Alberto|Valles-Abarca, Jose Antonio|Flamm, Daniel L.
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Gebunden. Etat : New. Dieser Artikel ist ein Print on Demand Artikel und wird nach Ihrer Bestellung fuer Sie gedruckt. Proceedings of the NATO Advanced Study Institute, Alicante, Spain, September 4-16, 1988 An understanding of the processes involved in the basic and applied physics and chemistry of the interaction of plasmas wit…h materials is vital to the evoluti.
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Buch. Etat : Neu. Plasma-Surface Interactions and Processing of Materials | O. Auciello (u. a.) | Buch | xiv | Englisch | 1990 | Springer | EAN 9780792305842 | Verantwortliche Person für die EU: Springer Verlag GmbH, Tiergartenstr. 17, 69121 Heidelberg, juergen[dot]hartmann[at]springer[dot]com | Anbieter: preigu Print on Demand.
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Buch. Etat : Neu. This item is printed on demand - Print on Demand Titel. Neuware -An understanding of the processes involved in the basic and applied physics and chemistry of the interaction of plasmas with materials is vital to the evolution of technologies such as those relevant to microelectronics, fusion and space.The subje…cts dealt with in the book include: the physics and chemistry of plasmas, plasma diagnostics, physical sputtering and chemical etching, plasma assisted deposition of thin films, ion and electron bombardment, and plasma processing of inorganic and polymeric materials.The book represents a concentration of a substantial amount of knowledge acquired in this area - knowledge which was hitherto widely scattered throughout the literature - and thus establishes a baseline reference work for both established and tyro research workers.Springer-Verlag KG, Sachsenplatz 4-6, 1201 Wien 576 pp. Englisch.
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Taschenbuch. Etat : Neu. This item is printed on demand - Print on Demand Titel. Neuware -An understanding of the processes involved in the basic and applied physics and chemistry of the interaction of plasmas with materials is vital to the evolution of technologies such as those relevant to microelectronics, fusion and space.Th…e subjects dealt with in the book include: the physics and chemistry of plasmas, plasma diagnostics, physical sputtering and chemical etching, plasma assisted deposition of thin films, ion and electron bombardment, and plasma processing of inorganic and polymeric materials.The book represents a concentration of a substantial amount of knowledge acquired in this area - knowledge which was hitherto widely scattered throughout the literature - and thus establishes a baseline reference work for both established and tyro research workers.Springer-Verlag KG, Sachsenplatz 4-6, 1201 Wien 576 pp. Englisch.
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Vendeur : BuchWeltWeit Ludwig Meier e.K., Bergisch Gladbach, AllemagneBuchWeltWeit Ludwig Meier e.K.
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Buch. Etat : Neu. This item is printed on demand - it takes 3-4 days longer - Neuware -An understanding of the processes involved in the basic and applied physics and chemistry of the interaction of plasmas with materials is vital to the evolution of technologies such as those relevant to microelectronics, fusion and space. The…subjects dealt with in the book include: the physics and chemistry of plasmas, plasma diagnostics, physical sputtering and chemical etching, plasma assisted deposition of thin films, ion and electron bombardment, and plasma processing of inorganic and polymeric materials. The book represents a concentration of a substantial amount of knowledge acquired in this area - knowledge which was hitherto widely scattered throughout the literature - and thus establishes a baseline reference work for both established and tyro research workers. 576 pp. Englisch.
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Taschenbuch. Etat : Neu. This item is printed on demand - it takes 3-4 days longer - Neuware -An understanding of the processes involved in the basic and applied physics and chemistry of the interaction of plasmas with materials is vital to the evolution of technologies such as those relevant to microelectronics, fusion and spac…e. The subjects dealt with in the book include: the physics and chemistry of plasmas, plasma diagnostics, physical sputtering and chemical etching, plasma assisted deposition of thin films, ion and electron bombardment, and plasma processing of inorganic and polymeric materials. The book represents a concentration of a substantial amount of knowledge acquired in this area - knowledge which was hitherto widely scattered throughout the literature - and thus establishes a baseline reference work for both established and tyro research workers. 576 pp. Englisch.
