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Hf-based High-k Dielectrics : Process Development, Performance Characterization, and Reliability
Vendeur : GreatBookPrices, Columbia, MD, Etats-Unis
Évaluation du vendeur 5 sur 5 étoiles
EUR 32,56
Expédition à EUR 2,29
Expédition nationale : Etats-UnisQuantité disponible : Plus de 20 disponibles
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Hf-based High-k Dielectrics : Process Development, Performance Characterization, and Reliability
Vendeur : GreatBookPrices, Columbia, MD, Etats-Unis
Évaluation du vendeur 5 sur 5 étoiles
EUR 33,65
Expédition à EUR 2,29
Expédition nationale : Etats-UnisQuantité disponible : Plus de 20 disponibles
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Hf-Based High-k Dielectrics: Process Development, Performance Characterization, and Reliability (Synthesis Lectures on Solid State Materials and Devices)
Vendeur : Books Puddle, New York, NY, Etats-Unis
Évaluation du vendeur 4 sur 5 étoiles
EUR 43,50
Expédition à EUR 3,46
Expédition nationale : Etats-UnisQuantité disponible : 4 disponible(s)
Ajouter au panierEtat : New. 1st edition NO-PA16APR2015-KAP.
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Hf-Based High-k Dielectrics: Process Development, Performance Characterization, and Reliability (Synthesis Lectures on Solid State Materials and Devices)
Vendeur : Ria Christie Collections, Uxbridge, Royaume-Uni
Évaluation du vendeur 5 sur 5 étoiles
EUR 34,42
Expédition à EUR 13,87
Expédition depuis Royaume-Uni vers Etats-UnisQuantité disponible : Plus de 20 disponibles
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Hf-based High-k Dielectrics : Process Development, Performance Characterization, and Reliability
Vendeur : GreatBookPricesUK, Woodford Green, Royaume-Uni
Évaluation du vendeur 5 sur 5 étoiles
EUR 33,26
Expédition à EUR 17,36
Expédition depuis Royaume-Uni vers Etats-UnisQuantité disponible : Plus de 20 disponibles
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Hf-based High-k Dielectrics : Process Development, Performance Characterization, and Reliability
Vendeur : GreatBookPricesUK, Woodford Green, Royaume-Uni
Évaluation du vendeur 5 sur 5 étoiles
EUR 38,11
Expédition à EUR 17,36
Expédition depuis Royaume-Uni vers Etats-UnisQuantité disponible : Plus de 20 disponibles
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Hf-BASED HIGH-k DIELECTRICS: Process Development, Performance Characterization, and Reliability (Synthesis Lectures on Solid State Materials and Devices)
Langue: anglais
Edité par Morgan and Claypool Publishers, 2005
ISBN 10 : 1598290045 ISBN 13 : 9781598290042
Vendeur : The Book Spot, Sioux Falls, MN, Etats-Unis
Évaluation du vendeur 5 sur 5 étoiles
EUR 93,85
Livraison gratuite
Expédition nationale : Etats-UnisQuantité disponible : 1 disponible(s)
Ajouter au panierPaperback. Etat : New.
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Hf-Based High-k Dielectrics : Process Development, Performance Characterization, and Reliability
Langue: anglais
Edité par Springer International Publishing, 2007
ISBN 10 : 3031014243 ISBN 13 : 9783031014246
Vendeur : AHA-BUCH GmbH, Einbeck, Allemagne
Évaluation du vendeur 5 sur 5 étoiles
EUR 29,95
Expédition à EUR 61,06
Expédition depuis Allemagne vers Etats-UnisQuantité disponible : 1 disponible(s)
Ajouter au panierTaschenbuch. Etat : Neu. Druck auf Anfrage Neuware - Printed after ordering - In this work, the reliability of HfO2 (hafnium oxide) with poly gate and dual metal gate electrode (Ru-Ta alloy, Ru) was investigated. Hard breakdown and soft breakdown, particularly the Weibull slopes, were studied under constant voltage stress. Dynamic stressing has also been used. It was found that the combination of trapping and detrapping contributed to the enhancement of the projected lifetime. The results from the polarity dependence studies showed that the substrate injection exhibited a shorter projected lifetime and worse soft breakdown behavior, compared to the gate injection. The origin of soft breakdown (first breakdown) was studied and the results suggested that the soft breakdown may be due to one layer breakdown in the bilayer structure (HfO2/SiO2: 4 nm/4 nm). Low Weibull slope was in part attributed to the lower barrier height of HfO2 at the interface layer. Interface layer optimization was conducted in terms of mobility, swing, and short channel effect using deep submicron MOSFET devices.
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EUR 29,10
Expédition à EUR 70
Expédition depuis Allemagne vers Etats-UnisQuantité disponible : 5 disponible(s)
Ajouter au panierTaschenbuch. Etat : Neu. Hf-Based High-k Dielectrics | Process Development, Performance Characterization, and Reliability | Young-Hee Kim (u. a.) | Taschenbuch | Synthesis Lectures on Solid State Materials and Devices | x | Englisch | 2007 | Springer | EAN 9783031014246 | Verantwortliche Person für die EU: Springer Verlag GmbH, Tiergartenstr. 17, 69121 Heidelberg, juergen[dot]hartmann[at]springer[dot]com | Anbieter: preigu.
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Hf-Based High-k Dielectrics: Process Development, Performance Characterization, and Reliability (Synthesis Lectures on Solid State Materials and Devices)
Vendeur : Majestic Books, Hounslow, Royaume-Uni
Évaluation du vendeur 4 sur 5 étoiles
EUR 40,68
Expédition à EUR 7,52
Expédition depuis Royaume-Uni vers Etats-UnisQuantité disponible : 4 disponible(s)
Ajouter au panierEtat : New. Print on Demand.
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Hf-Based High-k Dielectrics: Process Development, Performance Characterization, and Reliability (Synthesis Lectures on Solid State Materials and Devices)
Vendeur : Biblios, Frankfurt am main, HESSE, Allemagne
Évaluation du vendeur 4 sur 5 étoiles
EUR 41,63
Expédition à EUR 9,95
Expédition depuis Allemagne vers Etats-UnisQuantité disponible : 4 disponible(s)
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