Harris rusty (36 résultats)
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Etat : New. Print on Demand pp. 168 2:B&W 6 x 9 in or 229 x 152 mm Perfect Bound on Creme w/Gloss Lam.
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Taschenbuch. Etat : Neu. Druck auf Anfrage Neuware - Printed after ordering - To address the increasing demands of device scaling, new materials are being introduced into conventional Si CMOS processing at an unprecedented rate. Presentations collected here focus on understanding, from a chemistry and materials perspective, the…mechanism of interface formation and defects at interfaces, for both conventional Si and alternative channel (Ge or III-V) systems. Several papers address reliability concerns for high-k/metal gate (basic physical models, charge trapping, etc.), while others cover characterization of the thin films and interfaces which comprise the gate stack. Topics include: advanced Si-based gate stacks; and alternate channel materials.
Cmos Gate-stack Scaling Materials, Interfaces and Reliability Implications : Symposium Held April 14-16, 2009, San Francisco, California, U.s.a.
Butterbaugh, J. (EDT); Demkov, a (EDT); Harris, R. (EDT); Rachmady, W. (EDT); Taylor, B. (EDT)
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Etat : New.
Gardens of Georgia [Savannah and the Coast --- Coastal Georgia -- The Piedmont plateau -- South Georgia -- Atlanta and North Georgia -- Index of Gardens -- Sources for quoted material -- Bibliography
Mitchell, William R. ; Moore, Richard, 1955- , Deloye Burrell,Tom Woodham, James Valentine, Paul C. Beswick, Michael Portman, photography.; editors, VanJones Martin, Lisa Lytton-Smith, Kathleen Bergen Durham, Rusty Smith; contributors, Deen Day Smith, Jean Hogan, Val Sheridan, Mary Sheridan, Bryan Haltermann, Harriet Haltermann, Clason Kyle, Ben Grace, Robert Tucker, Dan Franklin, Edith henderson, David Byers, Laura Ellis, Clermont Lee, Ed Daughert, Jim Gibbs, Ryan Gainey, Doug Dorough, Patricia Ray, Robert J. Hill, Emily Harris, Louise Allen, Henry Howell, Louisa McIntosh, Martha Bateman, Ken Thomas, Jane Boyd, Julia Orme Martin, Carl Cofer, Barbara Stegall, Roy Mann, Eugene Cline, Margarita Cline, Sam W. Mangham, BG McElwee, P Fugger
Langue : anglais
Edité par Atlanta : Peachtree Publishers : Garden Club of Georgia, c1989., 1989
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Vendeur : Joseph Valles - Books, Stockbridge, GA, Etats-UnisJoseph Valles - Books
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Hardcover. Etat : Fine. Etat de la jaquette : Fine. 1st Edition. [1st edition, 1st printing; trade edition ] ; ix, 214 p. : ill. (chiefly col.) ; 31 cm. ; ISBN 9780934601764, 9780934601771, 0934601763, 0934601771 ; OCLC 20012286 ; LCCN 89016100 ; LC SB466.U65 G46 1989 ; Dewey 712/.09758 ; sand-colored cloth in color photographic… dustjacket ; Contents: Savannah and the Coast --- Coastal Georgia -- The Piedmont plateau -- South Georgia -- Atlanta and North Georgia -- Index of Gardens -- Sources for quoted material -- Bibliography ; Graced with one of the longest growing seasons in North America, Georgia has a rich and interesting tradition of gardens and gardening. That tradition is vividly portrayed in Gardens of Georgia, commissioned by the Garden Club of Georgia, Inc., to commemorate its sixtieth anniversary and to celebrate the heritage and beauty of Georgia's gardens.As noted by Georgia founder James Oglethorpe in 1732, Georgia has a happy climate. From the broad-shouldered mountains of the Blue Ridge, through the red clay of the rolling piedmont, across the sprawling piney coastal plain, and on to the subtropical islands on the Atlantic, Georgia is blessed with four regions of gardening opportunities, distinctly defined by differences in elevation, climate, soil, and natural vegetation.Writer William Mitchell and photographer Richard Moore have portrayed the wonders of gardens historic and contemporary, public and private, and urban, suburban, and rural from each of these regions. Whether illustrating overall gardenscapes or capturing intimate vignettes and individual blossoms, Richard Moore's photographs have a depth of color and clarity of detail that immerse the reader into a world of delightful splendor. The text by Willaim Mitchell not only describes the settings as they are today, but also spins a rich background of history in the context of the botanical Eden observed by early explorers.The richest legacy of each generation is to preserve and protect an always vulnerable natural environment and help nature bring forth its green and glowing cycles of rebirth. Gardens of Georgia celebrates that legacy, sharing the ongoing dream of paradise--a new Eden--whether it is in a grand formal garden from an earlier era or a small plot of perennials in a Georgia yard. ; FINE/FINE. Book.
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Etat : New. PRINT ON DEMAND pp. 168.
Cmos Gate-stack Scaling Materials, Interfaces and Reliability Implications : Symposium Held April 14-16, 2009, San Francisco, California, U.s.a.
Butterbaugh, J. (EDT); Demkov, a (EDT); Harris, R. (EDT); Rachmady, W. (EDT); Taylor, B. (EDT)
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Etat : New.
Cmos Gate-stack Scaling - Materials, Interfaces and Reliability Implications: Volume 1155
. Ed(s): Demkov, Alexander A. (Freescale Semiconductor Inc., Austin, Texas); Taylor, Bill; Harris, H. Rusty; Butterbaugh, Jeffery W.; Rachmady, Willy
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EUR 9,50 expéditionExpédition depuis Irlande vers Etats-UnisQuantité disponible : Plus de 20 disponibles
Etat : New. The MRS Symposium Proceeding series is an internationally recognised reference suitable for researchers and practitioners. Editor(s): Demkov, Alexander A. (Freescale Semiconductor Inc., Austin, Texas); Taylor, Bill; Harris, H. Rusty; Butterbaugh, Jeffery W.; Rachmady, Willy. Series: MRS Proceedings. Num Pages: 194 pa…ges, Illustrations. BIC Classification: TGM. Category: (U) Tertiary Education (US: College). Dimension: 228 x 152 x 13. Weight in Grams: 430. . 2009. Hardback. . . . .
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Etat : New. pp. viii + 179.
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EUR 11,69 expéditionExpédition depuis Royaume-Uni vers Etats-UnisQuantité disponible : 2 disponible(s)
Hardcover. Etat : Brand New. 194 pages. 9.13x6.30x0.79 inches. In Stock.
Cmos Gate-stack Scaling - Materials, Interfaces and Reliability Implications: Volume 1155
. Ed(s): Demkov, Alexander A. (Freescale Semiconductor Inc., Austin, Texas); Taylor, Bill; Harris, H. Rusty; Butterbaugh, Jeffery W.; Rachmady, Willy
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Vendeur : Kennys Bookstore, Olney, MD, Etats-UnisKennys Bookstore
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EUR 168,61
EUR 9,00 expéditionExpédition nationale : Etats-UnisQuantité disponible : Plus de 20 disponibles
Etat : New. The MRS Symposium Proceeding series is an internationally recognised reference suitable for researchers and practitioners. Editor(s): Demkov, Alexander A. (Freescale Semiconductor Inc., Austin, Texas); Taylor, Bill; Harris, H. Rusty; Butterbaugh, Jeffery W.; Rachmady, Willy. Series: MRS Proceedings. Num Pages: 194 pa…ges, Illustrations. BIC Classification: TGM. Category: (U) Tertiary Education (US: College). Dimension: 228 x 152 x 13. Weight in Grams: 430. . 2009. Hardback. . . . . Books ship from the US and Ireland.
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Vendeur : AHA-BUCH GmbH, Einbeck, AllemagneAHA-BUCH GmbH
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EUR 62,20 expéditionExpédition depuis Allemagne vers Etats-UnisQuantité disponible : 1 disponible(s)
Buch. Etat : Neu. Druck auf Anfrage Neuware - Printed after ordering - To address the increasing demands of device scaling, new materials are being introduced into conventional Si CMOS processing at an unprecedented rate. Presentations collected here focus on understanding, from a chemistry and materials perspective, the mechani…sm of interface formation and defects at interfaces, for both conventional Si and alternative channel (Ge or III-V) systems. Several papers address reliability concerns for high-k/metal gate (basic physical models, charge trapping, etc.), while others cover characterization of the thin films and interfaces which comprise the gate stack. Topics include: advanced Si-based gate stacks; and alternate channel materials.
Cmos Gate-stack Scaling Materials, Interfaces and Reliability Implications : Symposium Held April 14-16, 2009, San Francisco, California, U.s.a.
Butterbaugh, J. (EDT); Demkov, a (EDT); Harris, R. (EDT); Rachmady, W. (EDT); Taylor, B. (EDT)
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Vendeur : GreatBookPricesUK, Woodford Green, Royaume-UniGreatBookPricesUK
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EUR 17,53 expéditionExpédition depuis Royaume-Uni vers Etats-UnisQuantité disponible : Plus de 20 disponibles
Etat : As New. Unread book in perfect condition.
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EUR 240,77
EUR 29,22 expéditionExpédition depuis Royaume-Uni vers Etats-UnisQuantité disponible : 1 disponible(s)
Hardcover. Etat : Like New. LIKE NEW. SHIPS FROM MULTIPLE LOCATIONS. book.
Cmos Gate-stack Scaling Materials, Interfaces and Reliability Implications : Symposium Held April 14-16, 2009, San Francisco, California, U.s.a.
Butterbaugh, J. (EDT); Demkov, a (EDT); Harris, R. (EDT); Rachmady, W. (EDT); Taylor, B. (EDT)
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Vendeur : GreatBookPrices, Columbia, MD, Etats-UnisGreatBookPrices
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EUR 276,08
EUR 2,26 expéditionExpédition nationale : Etats-UnisQuantité disponible : Plus de 20 disponibles
Etat : As New. Unread book in perfect condition.
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Vendeur : Majestic Books, Hounslow, Royaume-UniMajestic Books
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EUR 51,83
EUR 7,60 expéditionExpédition depuis Royaume-Uni vers Etats-UnisQuantité disponible : 4 disponible(s)
Etat : New. Print on Demand pp. 194.
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Vendeur : THE SAINT BOOKSTORE, Southport, Royaume-UniTHE SAINT BOOKSTORE
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EUR 15,72 expéditionExpédition depuis Royaume-Uni vers Etats-UnisQuantité disponible : Plus de 20 disponibles
Paperback / softback. Etat : New. This item is printed on demand. New copy - Usually dispatched within 5-9 working days.
Cmos Gate-Stack Scaling Materials, Interfaces and Reliability Implications
Rachmady Willy Butterbaugh Jeffery W. Harris H. Rusty Taylor Bill Demkov Alexander A.
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Vendeur : Biblios, frankfurt am main, HESSE, AllemagneBiblios
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EUR 53,80
EUR 9,95 expéditionExpédition depuis Allemagne vers Etats-UnisQuantité disponible : 4 disponible(s)
Etat : New. PRINT ON DEMAND pp. 194.
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Vendeur : CitiRetail, Stevenage, Royaume-UniCitiRetail
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EUR 43,33
EUR 43,24 expéditionExpédition depuis Royaume-Uni vers Etats-UnisQuantité disponible : 1 disponible(s)
Paperback. Etat : new. Paperback. To address the increasing demands of device scaling, new materials are being introduced into conventional Si CMOS processing at an unprecedented rate. Presentations collected here focus on understanding, from a chemistry and materials perspective, the mechanism of interface formation and defects… at interfaces, for both conventional Si and alternative channel (Ge or III-V) systems. Several papers address reliability concerns for high-k/metal gate (basic physical models, charge trapping, etc.), while others cover characterization of the thin films and interfaces which comprise the gate stack. Topics include: advanced Si-based gate stacks; and alternate channel materials. The MRS Symposium Proceeding series is an internationally recognised reference suitable for researchers and practitioners. This item is printed on demand. Shipping may be from our UK warehouse or from our Australian or US warehouses, depending on stock availability.
